池田屋原装HORIBA堀场SEC-N112MGM气体流量控制器产品介绍技术参

HORIBA堀场SEC-N112MGM是SEC-N100家族中销量的模拟接口型气体质量流量控制器，凭借高精度、高速响应与多场景适配能力，被业界誉为“小Z500"。它以MGMR（多气体/多量程）技术为核心，将10SCCM至50SLM的流量跨度浓缩于单台设备，为半导体、光伏、LED等对成本与精度双重敏感的行业，提供了兼具性价比与可靠性的流量控制解决方案。

二、核心技术与性能参数

（一）精准测量技术

采用热式传感器原理，通过微型加热电桥实时检测气体带走的热量，直接输出质量流量数据，规避温度、压力波动对测量结果的干扰，确保数据精准性。搭配16点多段曲线与HORIBA专属气体数据库，可实现N₂、O₂、Ar、H₂、SiH₄等数十种工艺气体的线性补偿，无需额外校准即可适配多气体场景。

（二）关键性能指标

• 流量范围：10SCCM - 50SLM（N₂当量），支持在20% - 100%满量程间通过软件自由切换；

• 精度表现：设定值＞30%F.S.时，精度达±1.0% of Set Point；设定值≤30%F.S.时，精度为±0.3%F.S.；

• 响应速度：搭载可变PID控制算法，全量程阶跃响应时间≤1秒，可快速适应工艺参数变化；

• 稳定性保障：重复性±0.2%F.S.，外漏率≤1×10⁻¹¹Pa·m³/s（He），采用316L EP管（Ra≤0.25µm）与全金属密封结构，无橡胶圈设计，适配高纯度与腐蚀性气体环境。

（三）接口与安装特性

支持0–5V、0–10V、4–20mA模拟输出，供电为±15VDC（±5%），整机功耗＜3W；设备尺寸为81.8×30.5×126mm，重量仅1.2kg，支持任意角度安装，适配复杂系统集成需求。

三、多场景应用优势

（一）半导体制造

在刻蚀、LPCVD、ALD等工艺腔体中，可实现SiH₄、PH₃、NF₃等工艺气体的精密配送，精准控制气体流量与配比，保障晶圆加工的均匀性与良品率。

（二）光伏产业

针对PERC、TopCon电池的扩散与PECVD工艺，能稳定控制NH₃、B₂H₆、N₂O等气体流量，助力提升电池转化效率，降低原材料损耗。

（三）LED/OLED生产

在MOCVD反应腔中，可高效管理载气与反应气体流量，保障外延层生长的厚度均匀性，提升LED器件的亮度与寿命。

（四）其他领域

在燃料电池领域，可用于氢气、空气的计量与泄露测试；在环保与实验室场景中，支持CEMS标气稀释、手套箱气氛控制等高精度操作。

四、成本与效率优势

MGMR技术赋予设备“一台顶多台"的能力，通过软件即可瞬间切换气体种类与量程，可减少50%以上的备件库存。切换后1秒内完成PID参数重算，无需拆机重新标定，几乎无停机时间，从采购、校准、维护到仓储全流程降低成本，已被多家晶圆厂纳入“降本增效"实践案例