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池田屋原装KASHIYAMA  干泵 SDL30K-JM028-A产品介绍技术参数

 更新时间:2026-05-26 点击量:33

在半导体、FPD(平板显示)、LED以及光伏等高科技制造业中,真空环境是许多关键工艺(如刻蚀、沉积、光刻)的前提。然而,传统的油封式真空泵因存在工作介质返流污染工艺腔室的风险,已逐渐被无油干式真空泵所取代。日本KASHIYAMA(樫山工业)是该领域的,其SDL30K系列干泵以其高抽速、低能耗和优异的颗粒耐受性而备受赞誉。SDL30K-JM028-A 是该系列中的一款具体型号,专为大流量、高负载的洁净及严苛工艺而设计。

产品介绍

SDL30K-JM028-A 是一款多级 Roots 式干式真空泵(通常被称为干泵)。它无油运行,依靠一对或多对相互反向旋转、且彼此之间以及与泵壳之间保持微米级间隙的罗茨转子,对气体进行逐级压缩并最终排至大气。这种设计使其内部无需任何密封液体,从而杜绝了碳氢化合物对真空环境的污染。

核心特征与技术优势:

  1. 全无油设计:泵体的气流通道内无油。需要润滑的部位是齿轮箱和轴承箱,而这些区域通过机械密封、活塞环或磁流体密封与真空室隔离。这确保了抽气过程中不会产生油蒸汽返流,获得洁净度的真空环境(可达 102 Pa 至 103 Pa 量级)。

  2. 高抽速与低极限压力:SDL30K 系列在入口压力较高区域具有的抽速,能够快速将腔室从大气压抽至低压状态。该型号的峰值抽速可达 3000 立方米/小时 以上(具体见参数)。配合前级泵(通常是小型罗茨泵或旋片泵),其极限压力可优于 5×102 Pa。

  3. 优异的颗粒处理能力:由于转子与转子、转子与泵壳之间为非接触式设计(存在微小间隙),且气体通路平滑、,SDL30K-JM028-A 具有较强的固体颗粒(如刻蚀产生的硅粉、氧化物粉尘)耐受和通过能力。它不会像爪式泵或涡旋泵那样因微小颗粒卡死而失效。

  4. 智能化温度控制:泵体内部通常集成有加热器及冷却水道。在实际应用中,可根据工艺气体成分(如易冷凝的副产物)主动将泵体温度控制在预设范围(如 120C180C),防止气体在压缩过程中冷凝成固体粉末堵塞泵腔。

  5. 紧凑模块化设计:相较于同等抽速的油封泵机组,SDL30K 干泵采用电机直驱或齿轮增速结构,体积紧凑,占地面积小,且易于在设备机台下方集成。

技术参数

注:以下为基于 KASHIYAMA SDL30K 系列典型规格,具体参数以英文规格书或产品铭牌为准。

参数项技术指标
型号SDL30K-JM028-A
类型多级罗茨干式真空泵 (Multi-stage Roots Dry Pump)
抽速3000m3/h(约 50,000 L/min,在 60Hz 时)
极限压力<5×102Pa(配合前级泵)
进气口径ISO160F / JIS 150A 或 6英寸法兰
排气口径ISO100F 或 4英寸法兰
电机功率约 11 kW - 15 kW(380-480V, 50/60Hz)
转速约 3000 - 3600 rpm
冷却方式水冷(冷却水流量 8-15 L/min,水温 15-25°C)
+ 风扇辅助散热
密封方式轴封:机械密封 + 氮气吹扫(可选)
轴承:油脂润滑
氮气吹扫接口标配(用于轴封保护和稀释工艺气体)
噪音<75dB(A) (在 1 米处)
重量约 500 - 600 kg
外形尺寸约 1200 mm (L) × 600 mm (W) × 800 mm (H)
控制方式变频驱动(可选),现场总线通讯
适用电压380V/400V/460V ±10%, 3相, 50/60Hz

主要用途

SDL30K-JM028-A 主要应用于大规模、高要求的工业真空环境,特别是那些不能容忍油污染需要处理大量粉尘或化学副产物的工艺。

1. 半导体与 FPD 刻蚀/沉积工艺(核心应用)

  • 等离子刻蚀 (Etching):在硅、氧化硅、氮化硅的刻蚀过程中,会产生大量的非挥发或低挥发性副产物(如聚合物、硅的卤化物)。SDL30K 的高抽速能迅速带走反应物,维持工艺压力的稳定;其高温加热功能防止副产物在泵内冷凝成粉尘;而无油结构则避免了碳氢化合物与等离子体反应产生微粒。

  • 化学气相沉积 (CVD) / 物理气相沉积 (PVD):在沉积薄膜时,腔室内需要极低的背景压力(高真空),并且存在未反应的前驱气体或溅射颗粒。干泵作为主泵的前级或粗抽泵,能有效排出这些颗粒而不堵塞。

2. 太阳能光伏电池制造

  • 硅基薄膜电池:在 PECVD 沉积氮化硅减反射膜时,会产生大量硅粉粉尘。SDL30K 因其宽间隙和光滑流道,被广泛用作主工艺泵,耐受硅粉能力强于其他干泵。

  • 刻蚀制绒:在刻蚀工序中,需要快速抽除反应气体,防止刻蚀不均。

3. 科研与大科学装置

  • 粒子加速器:维持超高真空束流管道的动态真空。

  • 空间环境模拟:大型真空舱的粗抽和维持。

4. 真空冶金与镀膜

  • 大面积卷绕镀膜:在塑料薄膜或纸张上蒸镀铝、金属氧化物时,放气量大(来自基材),需大抽速干泵维持工艺真空。

  • 热处理炉:用于钎焊、烧结、退火等工艺,防止工件氧化。

5. 锂电池制造

  • 烘烤与注液前抽空:在电芯注液前,需将烘箱或真空干燥炉抽低压力以去除水分。

使用与维护要点

  • 氮气吹扫:对于处理腐蚀性(如 Cl₂、BCl₃)或易冷凝气体(如 TMA、TEOS),必须持续通入 N2 进行轴封吹扫和气体稀释,以保护轴承和密封件。

  • 定期保养:虽然干泵维护周期比油泵长,但齿轮箱油需要每 6-12 个月更换一次。轴承寿命通常为 2-3 年。

  • 颗粒管理:若工艺产生大量粉尘,建议在泵入口前端加装 粉尘过滤器,以防颗粒在泵的排气阀处堆积导致性能下降。

  • 高温操作:加热型干泵在停泵后保温或继续通 N2 吹扫冷却,直到温度降至安全范围,以防冷凝物硬化导致下次无法启动。

总结

总而言之,KASHIYAMA SDL30K-JM028-A 是一款为大流量、高粉尘、严苛化学环境而生的工业级干式真空泵。它摒弃了传统油封泵的污浊,以精密而坚韧的非接触罗茨转子,在芯片工厂的刻蚀车间、光伏生产线的镀膜站以及真空镀膜机的核心位置,源源不断地将海量工艺气体和颗粒物迅速清空。

它就像一位身强力壮、从不抱怨、又特别爱干净的“肺",为精密制造提供了一个纯净、稳定的低压舞台。选择 KASHIYAMA SDL30K,意味着选择了高产能、低污染、经久耐用的大真空解决方案。