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池田屋新品发布ULVAC残余气体分析仪CGM2-051

 更新时间:2025-12-29 点击量:40

近期我司新品发布ULVAC残余气体分析仪CGM2-051
近期我司新品发布ULVAC残余气体分析仪CGM2-051
发布日期
2025年12月29日



ULVAC残余气体分析仪CGM2-051产品介绍

一、产品概述

CGM2-051是ULVAC推出的一款‌高精度、易用型残余气体分析仪‌,专为真空工艺中的气体监测和过程控制设计。它继承了ULVAC在真空技术领域的深厚积累,特别适合需要高精度气体分析的工业场景,比如半导体制造、光伏和真空镀膜等。

二、核心特点

  1. 高精度与高分辨率
    这款分析仪在高压环境下依然能保持出色的精度和分辨率,能准确检测到痕量气体成分,比如H2O等杂质,非常适合对气体纯度要求工艺过程。

  2. 极简设计与易用性
    CGM2-051采用了极简设计,操作非常友好,甚至支持“一键式"功能,大大降低了使用门槛。它还集成了显示功能,不需要外接PC就能完成大部分操作,非常方便。

  3. 高温烘烤与脱气功能
    设备支持120°C的高温烘烤(移除传感器时可达250°C),能有效去除传感器表面的污染物,保持长期稳定性。它还具备电子轰击脱气功能,进一步提升了分析的可靠性。

  4. 全面的保护与维护
    它内置了离子源和二次电子倍增器的保护机制,能有效延长设备寿命。此外,还提供了氦气泄漏测试、空气泄漏测试等多种测试功能,方便用户进行日常维护。

三、典型应用场景

  1. 半导体制造
    在PVD(物理气相沉积)系统中,CGM2-051能实时监测残余气体,帮助控制杂质(如H2O)含量,提升工艺稳定性和产品良率。

  2. 光伏与FPD行业
    在薄膜太阳能电池和平板显示器的生产过程中,它可用于过程监控和泄漏检测,确保生产环境符合高洁净度要求。

  3. 真空镀膜
    在溅射、蒸镀等真空镀膜工艺中,CGM2-051能精准分析工艺气体,优化镀膜质量,减少缺陷。

四、总结

CGM2-051是一款‌高精度、易操作、高可靠性‌的残余气体分析仪,特别适合对气体分析要求严苛的工业领域。它的极简设计、高温烘烤和全面保护功能,让它成为工艺控制和过程优化的得力助手。